2024年光刻機概念股有哪些會漲-2024-10-07

　　2024年光刻機概念股有哪些會漲，光刻機概念股定義：光刻機被譽為半導體制造業(yè)皇冠上的明珠，掌握光刻機制造技術是發(fā)展國產芯片的關鍵。光刻機概念股上市公司股票有53家。那么，2024年光刻機概念股有哪些會漲，本文詳細分析。

光刻機概念股龍頭一覽表：

1、安泰科技000969：公司亮點：先進金屬材料及制品的研發(fā)和生產銷售領域領先者。概念解析：2020年6月3日公司在互動平臺稱：公司的鎢合金產品用于某型號光刻機設備，是該型號光刻機的關鍵核心部件，尚屬于市場開發(fā)階段。產品名稱：難熔鎢鉬精深加工制品 、特種霧化制粉 、超硬工具材料 、稀土永磁材料及其制品 、非晶及納米晶材料。

2、福晶科技002222：公司亮點：全球最大LBO、BBO非線性光學晶體生產商。概念解析：間接供貨荷蘭ASML公司光刻機激光光源晶體 。產品名稱：非線性光學晶體 、激光晶體 、磁光晶體 、雙折射晶體 、聲光和電光晶體 、閃爍晶體 、窗口片 、反射鏡 、棱鏡 、偏振器 、柱面鏡 、球面鏡 、波片 、分光鏡 、磁光器件 、聲光器件 、電光器件 、電光驅動電源。

3、東方中科002819：公司亮點：電子測量儀器領域領先的綜合服務商。概念解析：公司表示北京科益虹源光電技術有限公司為公司客戶，科益虹源的產品已進入國際上最高端的DUV光刻光源產品系列。 產品名稱：信號發(fā)生器 、電壓測量儀器 、頻率 、時間測量儀器 、信號分析儀器 、電子元器件測試儀器 、電波特性測試儀器 、網絡特性測試儀器 、輔助儀器。

4、英唐智控300131：公司亮點：國內小型生活電器智能控制器領域的龍頭企業(yè)。概念解析：公司稱收購完成英唐微技術后，將主要圍繞第三代半導體SiC產品進行產線建設；此前收購的 先鋒微技術自有的生產設備中包含有日本產的光刻機設備。 產品名稱：生活電器智能控制產品 、物聯(lián)網產品 、電子元器件產品 、軟件銷售及維護。

5、金力泰300225：公司亮點：國內領先的消費類鋰電池模組制造商。概念解析：2020年6月9日互動平臺回復：超微弧氧化技術可應用于光刻機設備零部件的表面處理與其他半導體芯片集成電路的表面處理上。產品名稱：陰極電泳漆 、面漆 、陶瓷涂料 、環(huán)保節(jié)能材料產品。

6、飛凱材料300398：公司亮點：我國主要的光纖光纜涂覆材料供應商之一。概念解析：公司的光刻膠產品主要目標應用于TFT-LCD行業(yè)，產品性能滿足行業(yè)應用需求。產品名稱：TFT-LCD液晶顯示面板制造領域的正性光刻膠 、TN/STN型混合液晶 、TFT型混合液晶 、液晶單體及液晶中間體 、用于OLED屏幕制造領域的配套材料 、顯影液 、蝕刻液 、剝離液 、電鍍液 、錫球 、環(huán)氧塑封料 、紫外固化光纖光纜涂覆材料 、其他紫外固化材料。

7、強力新材300429：公司亮點：專業(yè)從事電子材料領域各類光刻膠專用電子化學品的研發(fā)生產。概念解析： 公司不生產光刻膠，公司主要從事電子材料領域各類光刻膠專用電子化學品（分為光引發(fā)劑、樹脂）的研發(fā)、生產和銷售及相關貿易業(yè)務。產品名稱：PCB光刻膠光引發(fā)劑 、PCB光刻膠樹脂 、LCD光刻膠光引發(fā)劑 、半導體光刻膠光引發(fā)劑 、其他用途光引發(fā)劑 、其他化合物。

8、賽微電子300456：公司亮點：我國導航定位領域的國家級高新技術企業(yè)和“雙軟”認證企業(yè)。概念解析： 2020年5月30日互動平臺回復：公司一直為全球光刻機巨頭廠商提供透鏡系統(tǒng)MEMS部件的工藝開發(fā)與晶圓制造服務。產品名稱：MEMS工藝開發(fā) 、MEMS晶圓制造 、GaN外延材料 、GaN器件設計業(yè)務。

9、七彩化學300758：公司亮點：專業(yè)從事高性能有機顏料(HPP)，溶劑染料及相關中間體領域。概念解析： 公司控股子公司紹興上虞新利化工有限公司“2000 噸/年光敏性中間體及 600 噸/年高性能光刻膠系列產品技改項目”目前正在安裝設備階段。產品名稱：顏料黃180 、顏料黃181 、顏料黃151 、顏料紅176 、顏料橙64 、顏料紅242 、顏料紅144 、顏料黃93 、顏料黃155 、顏料黃185 、顏料黃139 、溶劑綠5 、溶劑紅195 、AABI 、ASBI 、AMBI，1,8-萘酐。

10、安集科技688019：公司亮點：產品化學機械拋光液和光刻膠去除劑為關鍵半導體材料，打破國外壟斷。概念解析：根據光刻膠下游應用領域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產品。公司產品光刻膠去除劑是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的高端濕化學品。光刻膠去除劑一般由去除劑、溶劑、螯合劑、 緩蝕劑等組成，其中關鍵是去除劑和溶劑的選擇，從而獲得優(yōu)異的交聯(lián)光刻膠聚合物的去除；螯合劑及緩蝕劑等添加劑提供金屬及非金屬基材分子級、原子級保護，并進行光刻膠殘留物選擇性去除。公司光刻膠去除劑的核心技術包括光阻清洗中金屬防腐蝕技術、光刻膠殘留物去除技術。產品名稱：銅及銅阻擋層系列化學機械拋光液 、集成電路制造光刻膠去除劑 、晶圓級封裝光刻膠去除劑 、LED/OLED用光刻膠去除劑。

　　此數據由正點財經網提供，僅供參考，不構成投資建議。股市有風險，投資需謹慎，據此操作，風險自擔。